超纯水设备去除哪些杂质

超纯水设备去除哪些杂质
　　超纯水是一种纯度很高水，主要用于：集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿清洗、光刻掩模版制备和硅片氧化用水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等制作也都要使用超纯水。那么超纯水设备去除哪些杂质。
　　①无机电离杂质，如Ca、Mg、Na、K、Fe2+、Fe3+、Mn、Al、HCO、CO、SO、Cl、NO、NO、SiO、PO等。
　　②有机物，如烷基苯磺酸、油、有机铁、有机铝以及其他碳氢化合物等。

　　③颗粒，如尘埃、氧化铁、铝、胶体硅等。
　　④微生物，如细菌、浮游生物和藻类等。
　　⑤溶解气体，如N2、O2、CO2、H2S等。超纯水中电离杂质含量用水电阻率数值来衡量。理论上，纯水中只有H离子和OH离子参加导电。在25℃时超纯水电阻率为18.3(兆欧·厘米)，一般约为15～18(兆欧·厘米)。
　　水中各种杂质，同时存在，因此超纯水设备在处理过程中，采用多种方式去除，先后经过了前置预处理、反渗透、超滤等过程，其间同时还加活性碳，灭菌等过程。
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